Заряд частицы гидрозоля SiO2 возникает в результате диссоциации кремниевой кислоты, образующейся на поверхности коллоидных частиц при взаимодействии поверхностных молекул SiO2 c H2O. Написать формулу мицеллы золя. (Решение → 27970)

Заказ №38748

Заряд частицы гидрозоля SiO2 возникает в результате диссоциации кремниевой кислоты, образующейся на поверхности коллоидных частиц при взаимодействии поверхностных молекул SiO2 c H2O. Написать формулу мицеллы золя.

Решение:

Запишем уравнение химической реакции гидролиза: SiO2 + H2O → H2SiO3↓ В результате диссоциации молекул кремниевой кислоты образуются вновь молекулы оксида кремния (IV): H2SiO3↔ HSiO3 - + H+ HSiO3 - ↔ SiO3 -2 + H + Или общее уравнение: H2SiO3↔ SiO3 -2 + 2Н+ 1 моль кислоты соответствует 1 моль силикат-иона и 2 моль ионов водорода, поэтому примем, что ионов водорода (то ессть молекул воды) дано в избытке при образовании кремниевой кислоты.

Заряд частицы гидрозоля SiO2 возникает в результате диссоциации кремниевой кислоты, образующейся на поверхности коллоидных частиц при взаимодействии поверхностных молекул SiO2 c H2O. Написать формулу мицеллы золя.

Заряд частицы гидрозоля SiO2 возникает в результате диссоциации кремниевой кислоты, образующейся на поверхности коллоидных частиц при взаимодействии поверхностных молекул SiO2 c H2O. Написать формулу мицеллы золя.

Заряд частицы гидрозоля SiO2 возникает в результате диссоциации кремниевой кислоты, образующейся на поверхности коллоидных частиц при взаимодействии поверхностных молекул SiO2 c H2O. Написать формулу мицеллы золя.