Заряд частицы гидрозоля SiO2 возникает в результате диссоциации кремниевой кислоты, образующейся на поверхности коллоидных частиц при взаимодействии поверхностных молекул SiO2 c H2O. (Решение → 12215)

Заказ №39035

Заряд частицы гидрозоля SiO2 возникает в результате диссоциации кремниевой кислоты, образующейся на поверхности коллоидных частиц при взаимодействии поверхностных молекул SiO2 c H2O. Написать формулу мицеллы золя.

Решение: H2SiO3 ↔ H+ + HSiO3 -

Заряд частицы гидрозоля SiO2 возникает в результате диссоциации кремниевой кислоты, образующейся на поверхности коллоидных частиц при взаимодействии поверхностных молекул SiO2 c H2O.

Заряд частицы гидрозоля SiO2 возникает в результате диссоциации кремниевой кислоты, образующейся на поверхности коллоидных частиц при взаимодействии поверхностных молекул SiO2 c H2O.

Заряд частицы гидрозоля SiO2 возникает в результате диссоциации кремниевой кислоты, образующейся на поверхности коллоидных частиц при взаимодействии поверхностных молекул SiO2 c H2O.