ДЗ физ.вак. вариант 61 Технологический процесс – Ионная имплантацияОбъем рабочей камеры – 0,1 м3  Площ. непрогр. мет. дет.Fi – 0,15 м² Площ. поверх. стекла Fj – 0,001 м² Масса прогр. дет.(катод, испарит.) mk – 0,001 кгРабочий вакуум – 5.10-5 Па (безмаслянный)Характер производства – индивид. (Решение → 3830)

ДЗ физ.вак. вариант 61


Технологический процесс – Ионная имплантация

Объем рабочей камеры – 0,1 м3  

Площ. непрогр. мет. дет.Fi – 0,15 м² 

Площ. поверх. стекла Fj – 0,001 м² 

Масса прогр. дет.(катод, испарит.) mk – 0,001 кг

Рабочий вакуум – 5.10-5 Па (безмаслянный)

Характер производства – индивид.

Снимок1.JPG
Снимок2.JPG

ДЗ физ.вак. вариант 61 Технологический процесс – Ионная имплантацияОбъем рабочей камеры – 0,1 м3  Площ. непрогр. мет. дет.Fi – 0,15 м² Площ. поверх. стекла Fj – 0,001 м² Масса прогр. дет.(катод, испарит.) mk – 0,001 кгРабочий вакуум – 5.10-5 Па (безмаслянный)Характер производства – индивид. (Решение → 3830)

ДЗ физ.вак. вариант 61 Технологический процесс – Ионная имплантацияОбъем рабочей камеры – 0,1 м3  Площ. непрогр. мет. дет.Fi – 0,15 м² Площ. поверх. стекла Fj – 0,001 м² Масса прогр. дет.(катод, испарит.) mk – 0,001 кгРабочий вакуум – 5.10-5 Па (безмаслянный)Характер производства – индивид. (Решение → 3830)