Фотошаблон для фотолитографии Область техники, к которой относится изобретение: Изобретение относится к микроэлектронике, в частности к устройствам для фотолитографических процессов, и может быть использовано при изготовлении микросхем. МПК: H01L21/027 - образование маски на полупроводниковой подложке для дальнейшей фотолитографической обработки, не отнесенное к рубрикам H01L 21/18 или H01L 21/34 Формула изобретения  (Решение → 12048)

Фотошаблон для фотолитографии
Область техники, к которой относится изобретение: Изобретение относится к микроэлектронике, в частности к устройствам для фотолитографических процессов, и может быть использовано при изготовлении микросхем.
МПК: H01L21/027 - образование маски на полупроводниковой подложке для дальнейшей фотолитографической обработки, не отнесенное к рубрикам H01L 21/18 или H01L 21/34
Формула изобретения 
Хотите зарабатывать на СтудИзбе? - здесь я рассказываю все секреты как зарабатывать на готовых студенческих работах и от чего зависит доход!

Фотошаблон для фотолитографии Область техники, к которой относится изобретение: Изобретение относится к микроэлектронике, в частности к устройствам для фотолитографических процессов, и может быть использовано при изготовлении микросхем. МПК: H01L21/027 - образование маски на полупроводниковой подложке для дальнейшей фотолитографической обработки, не отнесенное к рубрикам H01L 21/18 или H01L 21/34 Формула изобретения  (Решение → 12048)

Фотошаблон для фотолитографии Область техники, к которой относится изобретение: Изобретение относится к микроэлектронике, в частности к устройствам для фотолитографических процессов, и может быть использовано при изготовлении микросхем. МПК: H01L21/027 - образование маски на полупроводниковой подложке для дальнейшей фотолитографической обработки, не отнесенное к рубрикам H01L 21/18 или H01L 21/34 Формула изобретения  (Решение → 12048)