Особенности формирования композиционно-модулированных пленочных материалов в условиях современной гальваностегии

СОДЕРЖАНИЕ

 

Введение

 

5

1  Особенности формирования  композиционно-модулированных пленочных  материалов в условиях современной  гальваностегии

 

6

2  Методика эксперимента

 

10

3 Физико-механические свойства  композиционных никель-УДА

 

11

3.1 Микротвердость покрытий

 

11

3.2 Трибологические свойства

 

16

Заключение

 

19

Список использованных источников

 

20

   

 

     

 

 

Введение

 

Одной из важных задач современной  науки и техники является разработка технологии получения новых материалов с заданным составом, структурой, физико-механическими  свойствами, способных выдерживать  длительные механические и тепловые нагрузки, противостоять вредному воздействию  износа, агрессивных сред, знакопеременных  и контактных нагрузок.

Перспективным направлением гальванотехники, решающим эту задачу, является создание композиционных электрохимических покрытий (КЭП). Принцип получения КЭП основан на том, что совместно с металлами из электролитов осаждаются дисперсные частицы различного размера и видов [2,6]. Подобный подход позволяет целенаправленно модифицировать металлические поверхности и улучшать их эксплуатационные свойства (твердость, износостойкость и др.). Благодаря этому КЭП находят широкое применение в приборостроении, при изготовлении медицинских инструментов и химической аппаратуры. Использование КЭП в приборах, используемых для обеспечения безопасности людей, также является возможным направлением применения композиционных электрохимических покрытий.

В настоящее время большое  внимание уделяется поиску новых  дисперсных материалов для КЭП. Интерес  в этом отношении представляют ультрадисперсные алмазы (УДА), промышленное производство которых уже освоено в республике Беларусь

Цель выполнения работы является изучение свойств КЭП, полученных при совместном электрохимическом осаждении никеля и УДА различной структуры и свойств на программируемых режимах электролиза.

 

 

 

1   Особенности формирования композиционно-модулированных пленочных материалов в условиях современной гальваностегии

 

Существуют различные  способы получения композиционных материалов, такие как прессование, литьё, физическое импульсное осаждение, химическое и электролитическое  осаждение. Однако наиболее широко используемым является метод электрохимического осаждения, позволяющий получать разнообразные  композиционные электрохимические  покрытия  из электролитов-суспензий  с добавкой определенного количества высокодисперсного порошка, что  обусловлено малыми затратами, требуемыми на его реализацию, и высокой производительностью. Процесс образования КЭП определяется свойствами и составом электролита, условиями электролиза, природой металла  и частиц. При формировании композиционного  покрытия наблюдаются трёх последовательные межфазные взаимодействия: матрица–частица, частица–среда, среда–матрица [1-12].

Применение нестационарных и программируемых режимов электролиза  при формировании композиционно-модулированных материалов позволяет в широких  пределах воздействовать на морфологию, субструктуру и физические свойства получаемых покрытий, в частности происходит повышение скорости осаждения металлов, исключается водородная хрупкость осадков, формируются блестящие покрытия без специальных добавок, повышается проводимость осадков из-за их максимальной чистоты и коррозионная стойкость из-за снижения пористости, снижается пассивирование анодов. Отличительной чертой технологических процессов в этом случаи являются высокие экономические показатели и возможность управления качеством получаемых покрытий [13-14].

Свойства композиционных материалов отличаются от свойств каждого  из его составляющих. КЭП - это класс двух- или многофазных материалов с существованием границ раздела между отдельными составляющими компонентами (фазами), являющихся системой, скомбинированной из разных материалов с целью получения улучшенных эксплуатационных свойств по сравнению со свойствами отдельных составляющих компонентов. В качестве дисперсной фазы используют ПАВ, тугоплавкие бориды, карбиды, нитриды, силициды, графиты, углеродистые материалы и абразивные порошки, размер частиц которых колеблется в широких пределах, от 0,01 до 10 мкм.

Частицы ультрадисперсного алмаза (УДА) представляют собой новый класс синтетических алмазных высокодисперсных порошков, которые перспективно использовать как структурный элемент для создания композиционных покрытий с металлической матрицей из хрома, кобальта, цинка, кадмия, никеля, серебра, золота, меди, палладия и др., обладающих интересными электрическими, механическими и другими свойствами [15-33].

УДА является эффективным  компонентом разнообразных композиционных материалов и покрытий. Он позволяет  значительно улучшить физико-механические, антифрикционные и защитные свойства композитов с одновременным повышением производительности процесса электролиза  и экономией материалов.

Для понимания механизма  формирования композиционно-модулированных пленочных материалов и возможности  получения осадков с заданными  свойствами необходимо иметь комплексное  представление об электродных процессах, подразумевающее изучение кинетики, условий электрокристаллизации с учётом сил, действующих между металлом (матрицей) и дисперсной частицей. Изучению механизма формирования композитов посвящены работы многих авторов. В работе [2, 6, 10] при формировании КЭП выделяют три стадии процесса.

  • Подвод дисперсных частиц из глубины раствора к катоду за счет перемешивания (естественного или искусственного), седиментации или электрофоретического переноса в диффузионном слое в результате создаваемых там высоких градиентов потенциалов.
  • Адгезия дисперсных частиц на катодной поверхности за счет сил электростатического притяжения, адгезионной связи с металлом, а также в результате попадания их в поры, капиллярные пустоты и микронеровности (углубления) поверхности электрода. На этой стадии важным фактором является выравнивающая способность электролита, при наличии которой частица может выталкиваться растущим под ней покрытием, а при отсутствии или при отрицательном выравнивании частицы зарастают покрытием.
  • Зарастание дисперсных частиц металлом. При этом на дисперсные частицы действуют силы притяжения к поверхности (молекулярные, электрические, осмотические, гидрофобного взаимодействия) и силы отталкивания (электростатические, структурная составляющая расклинивающего давления). Зарастание дисперсных частиц проводников и диэлектриков протекает различно. Частицы проводников, на которых возможно катодное выделение металла, обволакиваются основным металлом по всей поверхности частицы, в то время как непроводящие частицы способны цементироваться лишь у основания. Диэлектрики полностью зарастают лишь тогда, когда толщина слоев будет больше диаметра самой частицы. Надо отметить, что между частицей и катодной поверхностью образуется расклинивающая прослойка жидкости.

Среди работ по композиционным покрытиям в последние годы выделилось новое направление, связанное с  использованием покрытий, содержащих включения ультрадисперсных частиц с размером порядка несколько  нанометров. Однако предложенные выше схемы формирования композиционно–модифицированных покрытий адекватны для систем с  крупными частицами (больше 10 мкм), механизм же образования КЭП с размером дисперсных частиц 1-100 нм изучен недостаточно.

В [6] авторы предполагают, что  образование КЭП с применением  ультрадисперсных частиц происходит по упрощенной схеме за счет механического  подвода частиц электролитом к поверхности  катода на расстояние, обеспечивающее заращивание их электрохимически осажденным металлом. Лещик с.Д. и Струк В.А. связывают механизм поведения нанопорошков УДА при блестящем хромировании с участием их в транспорте соединений хрома и механическим воздействием частиц на покрываемую поверхность. Однако при соосаждении электрохимических покрытий с высокодисперсными частицами второй фазы необходимо учитывать изменения, которые происходят с частицами в процессе электролиза. В [34] предложен механизм формирования КЭП с частицами УДА. Он включает следующие стадии:

  • коагуляция ультрадисперсных частиц в растворе;
  • образование квазиустойчивых кластеров и изменение вследствие этого дисперсного состава системы;
  • подвод кластеров за счёт гидродинамических сил к поверхности катода;
  • разрушение кластеров в прикатодной области;
  • слабая адсорбция ультрадисперсных частиц и осколков кластеров на поверхности катода;
  • сильная адсорбция дисперсной фазы (заращивание).

Таким образом, проведенный  теоретический анализ позволяет  предположить возможность получения  в условиях современной гальваностегии композиционно-модулированных пленочных  материалов с ультратонкой микроструктурой  и уникальными свойствами, удовлетворяющими современным требованиям к системам металлизации в радио- , микро - и наноэлектронике. Однако необходимо установить основные закономерности формирования кластерных структур и механизм получения композиционных покрытий электрохимическим методом с твердыми частицами в качестве упрочняющей фазы как в условиях стационарного, так и нестационарного электролиза; выявить кинетические закономерности изменения и управления свойствами покрытий в зависимости от режимов электролиза; исследовать параметры тонкой структуры композиционных покрытий, содержащих УДА и фуллерены, морфологию поверхности, физические и защитные свойства покрытий (износостойкости, удельного и контактного сопротивления, способности к пайке, коррозионной стойкости и др.) в зависимости от режимов электролиза и состава электролита.

Поиск новых процессов  при решении задач гальванотехники  характеризуется эмпирическим подходом, но современные темпы развития промышленности и новых технологий требуют усовершенствования методологических подходов в поиске оптимальных режимов. В настоящее  время накоплен большой опыт в  области теории процессов электроосаждения металлов с использованием постоянных и периодических токов. Однако отсутствует обстоятельное, применительно к конкретной системе электролит - ультрадисперсные агрегаты углерода – электрод, исследование влияния различных параметров нестационарных и программируемых режимов электролиза на концентрационные изменения участвующих в электрохимической реакции ионов в диффузионном электрическом слое, а также не установлены закономерности выбора дисперсной фазы из УДА или фуллеренов, вследствие чего создание композиций осуществляется трудоемким эмпирическим путем. Поэтому представляется перспективным использование математического моделирования для изучения закономерностей и оптимизация процесса формирования металлических покрытий, модифицированных ультрадисперсными агрегатами углерода, и прогнозирования его оптимальных параметров.

 

2 МЕТОДИКА ЭКСПЕРИМЕНТА

 

В ходе эксперимента использовались латунные образцы с покрытием  никель-УДА из сернокислого электролита (электролита Уоттса) в состав которого входят, г/л: - 240; - 40; - 30; частицы ультрадисперсного алмаза в виде водной суспензии в количестве 1-15 г/л.

Измерение микротвердости гальванических осадков проводили при помощи микротвердомера ПМТ-3М.

Исследование износостойкости  проводили на устройстве, обеспечивающем возвратно-поступательное движение стальной сферы по поверхности образца со скоростью 5 мм/сек, при нагрузке 1 Н, с последующим измерением ширины и глубины дорожки трения и определением объемного износа за 1 цикл и среднего значения коэффициента трения.

 

 

3  Физико-механические свойства композиционного  

    пленочного   материала  никель-УДА

 

Выход по току КЭП практически не зависит от концентрации наночастиц УДА в электролите (рисунок 1). При концентрации УДА 10 г/л наблюдается увеличение предельного тока вследствие активирования поверхности электродов и перемешивания околокатодного пространства движущимися частицами.

 

1 – электролит никелирования;

2 - электролит никелирования с 10 г/л УДА

Рисунок 1 – Зависимость выхода никеля по току от плотности тока

 

 

3.1 Микротвердость покрытий

 

Микротвердость гальванопокрытий в значительной степени зависит  от состава электролита и режима электролиза, что обусловлено изменением размера зерна осадка, количества дислокаций, содержания примесей и  т.д. Дисперсные материалы, внедряясь  в электролитически осаждаемый металл или контактируя с его поверхностью, нарушают кристаллическую структуру и образуют дефекты (дислокации) в кристаллической решетке. Таким образом, наличие дисперсных материалов в электролите и их контакт с катодом даже без включения в покрытие приводит к упрочнению металла, вследствие того, что они нарушают правильную последовательность чередования атомных плоскостей. Включенные в покрытие дисперсные частицы являются макробарьерами для смещения дислокаций. Известно также, что субмикрочастицы, располагаясь, вероятнее всего, по границам зерен, препятствует их росту.

Дисперсные частицы, находящиеся  в электролите во взвешенном состоянии, непрерывно контактируют с поверхностью катода и упрочняющее их воздействие проявляется как в момент захвата (заращивание) металлом, так и при ударе о поверхность катода. В момент удара частица поверхностью контакта экранирует катод, искажая (усложняя) тем самым структуру первоначальной электрокристаллизации металла. В этот же момент происходит полная или частичная потеря частицей кинетической энергии, зависящей от ее скорости, угла контактирования с катодом, приводящая к эффекту наклепа или шлифования-полирования (срезу микровыступов поверхности). В этом случае, как и при "захвате" частиц металлом, происходит усложнение структуры покрытия и его упрочнение. Степень упрочнения металла зависит от числа контактов частиц с катодом, их размеров, плотности и скорости. Чем больше концентрация частиц в электролите, тем выше прочность металла получаемого покрытия.

Измерение микротвердости гальванических осадков проводили на латунных образцах, твердость которых не уступала твердости наложенных слоев или была ниже ее, при помощи микротвердомера ПМТ-3М.

С увеличением концентрации УДА  в электролите с 0 до 10 г/л наблюдается  рост микротвердости с 2500 до 3800 МПа. Дальнейшее повышение содержания УДА приводит к росту твердости до ~4000 МПа (рисунок 2). Рост плотности тока приводит к увеличению твердости при 6-10 А/дм2 до 3800-4000 МПа и практически не изменяется при дальнейшем увеличении плотности тока (рисунок 3).

Электроосаждение на периодических токах приводит к росту твердости композиционно-модулированных пленочных материалов, содержащих ультрадисперсные агрегаты углерода в металлической матрице.

Поскольку на импульсных токах процесс  электролиза совершается за короткий промежуток времени действия импульса тока, то в сравнительно небольших  по размерам кристаллах образуется достаточно большое количество дислокаций. Благоприятно сориентированные дислокации разных знаков при встречном движении будут  аннигилировать и способствовать образованию более совершенной кристаллической структуры. В то же время дислокации одного знака за счет динамики импульсного электролиза и сил взаимного отталкивания начнут двигаться от центра к периферии кристалла и могут выйти на поверхность с образованием ямок выхода дислокаций. Однако большая часть дислокаций при своем движении к поверхности кристалла будет заблокирована. Скопление их у препятствий вызовет эффект упрочнения, повышения микротвердости, снижения пластичности.


Рисунок 2 – Зависимость микротвердости КЭП никель-УДА от концентрации УДА в электролите

 


Рисунок 3 – Зависимость микротвердости КЭП никель-УДА от плотности тока

 

Осаждение КЭП никель-УДА на импульсном токе приводит к повышению микротвердости до 6500-8000 МПа, причем ее значение слабо зависит от частоты импульсов в диапазоне 1-25 Гц (таблицы 1-2, рисунок 4).

 

 

Таблица 1 - Влияние параметров импульсного тока на микротвердость КП

τп, мс

HV, МПа

τи, мс

HV, МПа

20

3670

20

3670

40

4320

40

4230

60

4800

60

5390

100

5090

100

5160

140

4730

140

5130

200

3890

200

4440


 

Таблица 2 - Влияние скважности импульсного тока на микротвердость покрытия

Режим электролиза,

tи: tп, мс

HV, МПа

80:20

5030

60:40

4080

40:40

4290

40:60

4920

20:80

5020


 

 

Рисунок 4 – Влияние импульсного тока на микротвердость КЭП (tи=20 мс, iкср=6 А/дм2)

 

С увеличением  длительности импульса от 20 до 100 мс при  постоянной длительности паузы 20 мс происходит рост микротвердости с 3670 до 5400 МПа с дальнейшим снижением его до ~4400 МПа при увеличении τu до 200 мс. Увеличение длительности паузы с 20 до 100 мс позволяет повысить микротвердость с 3700 МПа до 5090 МПа, затем происходит ее уменьшение до 3890 МПа с ростом τu до 200 мс при длительности импульса 20 мс. Такой сложный характер зависимости микротвердости от скважности может быть обусловлен, с одной стороны, уменьшением размера зерна осадка и, с другой стороны, снижением содержания примесей, в том числе дисперсной фазы. Уменьшение частоты импульсного тока сопровождается некоторым уменьшением твердости покрытий.

Микротвердость осадков  никель-УДА, полученных на реверсированном токе, составляет 4000-5000 МПа и снижается с увеличением длительности прямого импульса (таблица 3)

 

Таблица 3 - Влияние реверсированного тока на микротвердость КЭП

Режим электролиза, tпр: tобр, мс

HV, МПа

1000:200

4580

5000:1000

4120

60:20

4900

200:20

4350


 

 

3.2 Триботехнические свойства

 

Механические свойства твердых  тел определяют их износостойкость. Износ покрытий зависит от многочисленных внешних факторов: удельных нагрузок, скоростей скольжения, температурного режима, эффективности смазочного материала, антифрикционных характеристик  и др.

Исследование износостойкости  проводили на устройстве, обеспечивающем возвратно-поступательное движение стальной сферы по поверхности образца со скоростью 5 мм/сек, при нагрузке 1 Н, с последующим измерением ширины и глубины дорожки трения и определением объемного износа за 1 цикл и среднего значения коэффициента трения.

Износостойкость покрытий резко  возрастает с увеличением содержания ультрадисперсных агрегатов углерода в электролите (таблица 4).

 

Таблица 4 – Влияние условий электролиза на триботехнические свойства КЭП никель-УДА

Режим электролиза

Без смазки

Со смазкой

W, ´10-6мкм3

k

W, ´10-6мкм3

k

Никель

8,8

0,6

1,9

0,2

2 г/л УДА

6,5

0,25

1,6

0,16

10 г/л УДА

3,1

0,25-0,32

1,3

0,15

ИТ, τип=20:80 мс

1,9

0,3

0,5

0,2

ИТ, τип=40:40 мс

2,6

0,2

1,8

0,15-0,2

ИТ, τип=80:20 мс

2,3

0,18

1,4

0,12-0,16

ИТ, τип=20:60 мс

2,1

0,15

0,8

0,12

РТ, τпроб=100:20 мс

2,5

0,25

1,6

0,15

РТ, τпроб=5000:1000 мс

2,7

0,25

1,1

0,12-0,15

РТ, τпроб=60:20 мс

5

0,35

1,1

0,15

РТ, τпроб=1000:200 мс

1,9

0,25

0,9

0,15


 

В условиях трения на воздухе  без смазочного материала наблюдается  снижение коэффициента трения  с 0,6 (для никеля) до 0,18-0,28 для КЭП (рисунок 5). Значение коэффициента трения увеличивается с ростом плотности тока и скважности  импульсов. Покрытия, полученные при различных параметрах  реверсированного тока, имеют коэффициент трения равный 0,2. Таким образом, при трении без смазочного материала смазочные свойства ультрадисперсных агрегатов углерода даже в небольшом количестве (0,1-0,7 масс.%) существенно уменьшают коэффициент трения, так как в этом случае твердые частицы и контртело разделены мягкой смазочной пленкой, т.е. включение дисперсной фазы обеспечивает КЭП высокие антифрикционные свойства.

Применение смазочного материала  приводит к снижению объемного износа в 1,5-5 раз, причем коэффициент трения композиционных покрытий никель-УДА снижается с 0,5-0,3 до 0,12-0,2, в то время как для никелевых покрытий он уменьшается с 0,6 до 0,24 (рисунок 6).

При использовании КЭП  в узлах трения частот требуется  обеспечить хорошую адгезию покрытия к подложке, высокую износостойкость  среднего слоя и сравнительно мягкий приработочный слой, т.е. необходимы определенные механические и антифрикционные свойства по толщине покрытия. В принципе, эту задачу можно решить использованием в узлах трения поликомпозиционных покрытий: изменением объемной доли твердых частиц по толщине покрытия можно регулировать механические свойства, а изменение доли смазочного материала – антифрикционные свойства. Однако реализация поставленной задачи в настоящее время сложна. Наибольшую прочность сцепления покрытия с деталью можно обеспечить нанесением подслоя чистого покрытия или плавным выведением ванны на рабочий режим при отключенных средствах транспортирования частиц к катоду. Требуемые свойства для зон истирания и приработки можно обеспечить только программным изменением режима электроосаждения.

1 - ПТ, никель ; 2 – ПТ;  3 – ИТ, τи: τп=20:60 мс;  4 - РТ, τпроб =1000:200 мс

 

Рисунок 5 – Влияние состава электролита и режима электролиза на величину коэффициента трения (без смазочного материала) КЭП никель-УДА (СУДА=10 г/л; Т=50°С; ik ср=6 А/дм2)

1 - ПТ, никель ; 2 – ПТ; 3 – ИТ, τи: τп=20:60 мс; 4 - РТ, τпроб =1000:200 мс

Рисунок 6 – Влияние состава электролита и режима электролиза на величину коэффициента трения (в присутствии смазочного материала) КЭП никель-УДА (СУДА=10 г/л; Т=50°С; ik ср=6 А/дм2)

 

заключение

 

Исследовано влияние  условий электролиза, природы компонентов, концентрации ультрадисперсных частиц алмаза физико-механические свойства композиционных покрытий. Установлено, что введение в никелевый осадок ультрадисперсных агрегатов углерода и использование нестационарных режимов электролиза позволяет  повысить микротвердость осадков с 2500 (для Ni) до 8000 МПа, износостойкость – в 2-5 раз, снизить коэффициент трения в 1,5-1,8 раза без ухудшения контактного электросопротивления.

 

список использованных источников

 

  1. Матулис Ю.Ю. Современные проблемы в развитии гальванотехники // Химическая физика и катализ. Физическая химия. Электрохимия: Тез. докл. XII Менделеевский съезд по общей и прикладной химии, Ленинград, 1981. – М.: Наука, 1981. – С. 274-275.
  2. Сайфуллин Р.С. Неорганические композиционные материалы. - М: Химия. 1983. - 304 с.
  3. Ажогин Ф.Ф., Беленький М.А., Галь И.Е. Гальванотехника: Справ. изд. – М.: Металлургия,1987. - 736 с.
  4. Киффер Р., Бенезовский Ф. Твердые материалы. - М.: Металлургия - 1968. – 384 с.
  5. Самсонов Г.В., Артамонов А.Я., Безыкорнов А.И. Выбор новых абразивных материалов на основе тугоплавких соединений // Порошковая металлургия. - Т. 66, № 6. - 1968. – С. 86-94.
  6. Антропов Л.И., Лебединский Ю. Н. Композиционные электрохимические покрытия и материалы. – Киев: Технiка, 1986. – 200 с.
  7. Гурьянов Г.В. Электроосаждение износостойких композиций. - Кишинёв: Штиинца, 1985. - 238 с.
  8. Гурьянов Г.В. Закономерности осаждения композиционных электрохимических покрытий из электролитов-суспензий // Электронная обработка материалов. - 1982. - № 4. - С. 28-33.
  9. Бородин И.Н. Порошковая гальванотехника. - М.: Машиностроение, 1990. – 240 с.
  10. Кудрявцев Н.Т. Электрохимические покрытия металлами. - М. Химия. 1979. 352 с.
  11. Беленький М.А., Иванов А.Ф.. Электроосаждение металлических покрытий: Справ. изд. – М.: Металлургия, 1985. - 288 с.
  12. Гальванические покрытия в машиностроении: Справочник. Т. 1 / Под ред. М.А. Шлугера. - М.: Машиностроение, 1985. - 240 с.
  13. Костин Н.А., Кублановский В.С., Заблудовский А.В. Импульсный электролиз. – Киев: Наук. думка, 1989. - 169 с.
  14. Кошкин Б.В., Дрибийский А.В., Луковцев В.П., Давыдов А.Д. Защитные свойства гальванических покрытий с чередующимися слоями // Защита металлов. -1996. - Т. 32, № 5. - С. 465-467.
  15. Пат. 2046094, МКИ 6 C 01 B 31/04. Синтетический углеродный алмазосодержащий материал / Т.М. Губаревич, В.Ю. Долматов, В.Ф. Пятериков, В.А. Марчуков, В.Г. Сущев. - № 93026920/26; Заявл. 26.05.1993; Опубл. 20.10.1995. – 1995. - С. 6.
  16. Пат. 2100063, МКИ 6 В 01 J 3/08. Способ получения алмаза в детонационной волне / Б.А. Выскубенко, В.Ф. Герасименко, Л.Е. Колегов, В.А. Мазанов, А.П. Толочко, В.П. Соловьев, А.В. Певницкий. - № 94010129/25; Заявл. 18.03.1994; Опубл. 27.12.1997. – 1997. - С. 3.
  17. Сакович Г.В., Брыляков П.М., Губаревич В.Д. и др Получение алмазных кластеров и их практическое использование // ЖВХО им. Д.И. Менделеева. - 1990. - Т. 35, № 5. - С. 600 – 602.
  18. Лещик С.Д., Гайдук Н.Б.. Исследование строения композиционных покрытий на основе электролитического хрома методом сканирующей зондовой микроскопии // ФКС: Тез.докл. VI РНК студентов и аспирантов, Гродно, 22-24 апр. 1998 г. - Гродно, ГрГУ, 1998. - С. 142-144.
  19. Курмашев В.И., Тимошков Ю.В., Данилюк А.Л. и др. Свойства никелевых композиционных покрытий с различными типами ультрадисперсных алмазов // Известия Белорусской инженерной академии. - 1997. - № 1(3)/3. - С. 33-35.
  20. Кушнер Л.К., Исакович М.В.. Исследование процесса композиционного золочения на периодических токах / Под ред. В.А. Лиопо. – Гродно: ГрГУ. 2002. –376с.
  21. Кушнер Л.К., Апенько О.Г. Электроосаждение композиционных покрытий на основе хрома на периодических токах // Физика конденсированного состояния: Тез. докл. Х Респ. науч. конф. студентов, магистрантов и аспирантов «Физика конденсированного состояния». / Под ред. В.А. Лиопо. – Гродно: ГрГУ. 2002. –376с.
  22. Кушнер Л.К., Хмыль А.А. Исследование закономерностей соосаждения золота и УДА // Известия Белорусской инженерной академии, №1(11)/3, Мн.-2001 г., с.102-104.
  23. Тимошков Ю.В., Губаревич Т.М., Ореховская Т.И. и др. Свойства композиционных никелевых покрытий с различными типами ультрадисперсных алмазных частиц // Гальванотехника и обработка поверхности. - 1999. - Т. 7. № 2. - С. 20-26.
  24. Долматов В.Ю. Ультрадисперсные алмазы детонационного синтеза: свойства и применение // Успехи химии. – 2001. - Т. 70. № 7. – С. 1-22.
  25. Буркат Г.К., Долматов В.Ю. Гальванические покрытия на основе ультрадисперсных алмазов детонационного синтеза // Электрохимия, гальванотехника и обработка поверхности: Тез. докл. междунар. конф., Москва, 4-8 июн. 2001. – М., 2001. – С. 14.
  26. Пат. 2107115, МКИ C 25 D 3/46. Электролит для нанесения хромалмазных покрытий / Е.В. Никитин, А.В. Корытников, О.Н. Бреусов, Т.Н. Зайцева, С.Я. Слюсарев, Н.Б. Грищук. - № 95111396/02, Заявл. 23.06.1995; Опубл. 20.03.1998. – 1998.- С. 6.
  27. Обзор материалов конференции ВНПК "Гальванотехника и обработка поверхности" // Гальванотехника и обработка поверхности. - 1999. - Т. 7, № 2. - С. 53.
  28. Лукашев Е.А. Исследование состава и кинетики осаждения алмазосодержащих композиционных электролитических покрытий на основе никеля // Электрохимия. - 1994. - Т. 30. № 1. - С. 93 – 97.
  29. Курмашёв В.И. Электрохимические методы формирования плёнок металлов, сплавов и композиционных материалов в производстве изделий электронной техники: Дисс. на соиск. уч. степ. д-ра технич. наук: 05.27.01 - Минск, 1990. – 529 с.
  30. Новоторцева И.Г., Гаевская Т.В.. О свойствах композиционных покрытий на основе никеля // Журнал прикладной химии. - 1999. - Т. 72, № 5. - С. 789-791.
  31. Пат. 2048573, МКИ 6 C 22 С 19/03. Композиционное электрохимическое покрытие / Л.А. Дегтярь, Ф.И. Кукоз, И.Д. Кудрявцева, Г.Н. Сысоев. - № 5020525/02, Заявл. 03.01.1992; Опубл. 20.11.1995; НКИ 204/43. — 2 с.
  32. Пат. № 4205, МКИ 7 C 25D 3/46. Способ нанесения покрытий на основе серебра / А.П. Корженевский, А.П. Достанко, Л.К. Кушнер, А.А. Хмыль, Т.М. Губаревич. - № 950139, Заявл. 16.03.1995; Опубл. 12.07.2001; НКИ 204/43. — 2 с.
  33. Пат. 2156838, МКИ 7 C 25 D 15/00. Способ получения композиционных металлоалмазных покрытий / Е.В. Никитин, Л.А. Поляков, Н.А. Калугин. - № 99108896/02, Заявл. 21.04.1999; Опубл. 27.09.2000. – 2000. – 6 с.
  34. Тимошков Ю.А., Молчан И.С., Ореховская Т.И., Курмашёв В.И. Механизм формирования электролитических композиционных покрытий содержащих ультрадисперсные частицы // Известия Белорусской инженерной академии. - 1998. - № 2(6)/2. - С. 184-187.

 


Особенности формирования композиционно-модулированных пленочных материалов в условиях современной гальваностегии